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中水回用经过反渗透产出的回用水,虽已经去除大部分污染物,但还达不到超纯水进水的严苛标准。若直接作为超纯水设备(RO+EDI)的进水水源,必须对多项关键水质指标进行管控,指标超标会直接造成EDI膜堆、后端反渗透膜污染、损耗,缩短核心耗材使用寿命,造成产水电阻率不达标。
需要重点管控的水质指标及超标后果
1、总溶解固体TDS(含盐量)
TDS代表水体整体含盐总量。当中水回用水TDS偏高,EDI膜堆的脱盐负荷会显著加大,模块运行电压、电流升高。
后果:超纯水出水电阻率无法达到设计标准;EDI长期高负荷运行,内部离子交换树脂消耗速度加快,会缩短EDI膜堆的正常使用寿命,增加后期更换成本。
2、硬度(钙离子、镁离子)
钙、镁属于易结垢离子,即使微量含量,对EDI系统危害也很大。
后果:在EDI膜堆的浓水室内部析出碳酸钙、氢氧化镁无机水垢,堵塞膜片流道;会造成EDI电压居高不下,水质持续恶化;硬度结垢属于较难恢复的污染,严重情况下会直接造成EDI膜堆不可逆损坏。
3、余氯以及氧化性物质
中水回用系统杀菌会用到氧化性杀菌剂,残余余氯会接触EDI内部树脂与膜片。
后果:氧化破坏EDI内部的离子交换树脂以及隔离膜片,这种损伤属于永久性不可逆破坏;树脂被氧化之后直接丧失交换能力,EDI彻底失去制超纯水能力。
4、COD、总有机物
中水来源是生产废水,会残留部分有机污染物,经过回用系统之后仍会有少量有机物残留。
后果:有机物吸附包裹在EDI树脂表面,形成有机污染,阻碍离子交换;表现为出水电阻率持续走低,常规冲洗无法恢复性能;同时有机物会助长微生物滋生,诱发生物污染。
5、浊度、胶体、悬浮物
即便经过反渗透,若前端膜出现泄漏,水体依然会带入胶体、细小悬浮颗粒。
后果:胶体颗粒覆盖EDI膜堆表面,增大膜堆运行电阻,产水水质下降;还容易造成EDI隔板流道堵塞,系统压差上升。
6、硅含量
硅在超纯水系统中是重点管控指标,普通反渗透对硅去除存在上限。
后果:硅在EDI内部浓缩析出硅垢;硅垢清洗难度极大,会造成超纯水出水硅指标超标,无法满足部分精密生产、实验室用水要求。
对应的管控保障措施
1、实时监测进水TDS、硬度,硬度偏高时,在超纯水设备前端增设软化装置;
2、配置活性炭过滤器,去除回用水中残余余氯与部分有机物,保护EDI;
3、超纯水设备前端配置5μm保安过滤器,拦截胶体与细小颗粒;
4、定期化验进水COD、硅含量,当中水回用产水水质波动大时,必要时增设中间水箱缓冲,避免水质冲击超纯水系统;
5、定时监控EDI运行电压、电流、产水电阻率,提前预判污染风险。